光学表面在加工后，往往会留有一定的缺陷，这给高精密元件的制造带了很大困难。实验室攻克了亚表层损伤检测的关键技术，成功开发出亚表层损伤检测装置。该项技术已授权国家发明专利3项：瞬时相移横向剪切干涉仪、非球面面形检测装置和方法、一种光学表面亚表层损伤测量装置的测量方法。
    采用理论分析、计算机模拟和实验研究的方法，遵循从特殊到一般循序渐进的研究思路，充分利用实验室在光学测量和图像处理等方面的优势，建立了基于层析成像的超光滑光学元件亚表面损伤检测理论和测试技术，其装置及原理如图所示。

    该研究对共焦照明条件下，超光滑光学表面亚表层损伤对入射光的散射情况进行了理论分析，验证了激光扫描共焦技术的有效性及可行性。进行了系统的总体设计、子系统设计和加工、调试、软件编制等工作。本研究的测试结果与传统HF腐蚀法比对结果显示：提供的基于光学层析的超光滑光学元件亚表面损伤检测的方法和技术，可有效实现亚表面损伤的定量检测。
    该研究的技术难点在于：中低频面型误差精确检测新方法与装置和亚表层损伤与缺陷测量新方法与新装置的研制。创新点：理论上验证了激光共聚焦技术对亚表层损伤测量可行性；获得了首幅光学表面亚表层损伤分布图；掌握了瞬时相移横向剪切干涉仪设计制造方法，从原理上消除振动和气流对高精度干涉的影响。
    国内目前主要采用破坏性方法对光学元件亚表面损伤进行检测，也有采用白光干涉法进行测量与评价。白光干涉检测纵向裂纹测量精度高，横向分辨率和被测元件面积受物镜制约，且检测深度有限。本研究目前获得的基于激光扫射共焦层析方法，可实现10mm×10mm光学元件亚表面损伤的非破坏、定量检测，检测深度可达100mm，分辨率优于1mm，还可实现(l/10)λ高精度非球面光学元件的面形检测问题，达到国外引进设备同等技术水平。