光学镀膜过程中，常常需要离子束进行辅助，而离子源是实现离子束辅助镀膜的关键装置。其主要作用在于：
① 提高薄膜的机械特性、抗腐蚀能力和稳定性；
② 可以在塑料、胶合件和其他对温度敏感的基底上镀制薄膜；
③ 提高膜层的抗激光性能；
④ 缩短镀膜时间，提高工效，节省水电消耗。
    目前，实验室已成功研制了多种离子源：
 ★ 宽束冷阴极离子源：具有结构简单、操作方便、污染小、寿命长等特点，可单独使用，也可多源同时使用。已成功地应用于多种金属（Al、Ag、Au）和多种介质膜（ZnS、MgF₂、TiO₂、SiO₂、Al₂O₃、Sn:In₂O₃等）的离子束辅助蒸发。该科技曾获国家科技进步二等奖。
    单头离子源的主要指标：
    ① 引出离子束口径：Φ3cm
    ② 引出离子束能量：400-1200eV可调
    ③ 离子束束流密度：3-120uA/cm²                
    ④ 离子源工作真空度：5×10^-3-3×10^-3Pa
    ⑤ 离子源工作气体：O₂、Ar、N₂、空气等
    ⑥ 离子源外形尺寸：Φ94×90

 ★ 脉冲真空电弧离子源：也称为脉冲等离子体发生器或脉冲多弧离子源。它可在高真空下（3×10^-3Pa以上），利用真空脉冲电弧放电使阴极材料蒸发并电离，形成纯净的等离子体。沉积在基片上成膜。该离子源可用于各类金属膜、合金膜和类金刚石膜的镀制。
    国内的电弧源一般是连续电弧源，而采用脉冲技术成膜这一新技术目前在国内只有我实验室独家掌握。
    主要性能指标：
    ① 真空度：3×10^-3-5×10^-3Pa
    ② 阴极工作电压：60-400V
    ③ 起弧极工作电压：300-800V
    ④ 脉冲频率：1-10Hz

 ★ 端部霍尔等离子体离子源，具有结构简单、操作方便、低的等离子能量、大能散度和发散角，以及大的离子束均匀性等特点。
    主要性能指标：
    ① 阳极电压：60-240V
    ② 阴极放电电流：0-15A
    ③ 引出离子能量：30-120eV
    ④ 离子束束流：0-5A
    ⑤ 离子源工作真空度：9×10^-3-6×10^-2Pa
    ⑥ 离子束均匀范围：Φ1000±3%
    ⑦ 离子源外形尺寸：Φ136×115