类金刚石薄膜作为新一代的光学材料，具有一系列优异的性能：该薄膜红外区透明、硬度高、耐磨擦、化学性能稳定、耐冲击、热膨胀系数小等。类金刚石薄膜可作为窗口保护膜；红外光学系统的红外增透及保护膜；CD-ROM光盘的高强度保护膜；半导体激光器和高功率集成电路的绝缘散热衬底；扬声器振动膜涂层等。
    实验室开发的脉冲电弧离子镀类金刚石膜制备技术，是一种物理汽相沉积方法，膜层中不含氢元素。该镀制方法简单，不需要给基片加负偏压，也不需要在镀制过程中给真空室中充任何气体，镀制工艺重复性好，适合于大批量工业生产应用。采用该方法镀制的类金刚石薄膜，光学透明性好，化学性能稳定，耐磨性好，能耐受恶劣环境。实验室制备的DLC红外减反膜，在f150范围内不均匀度小于5%，在3-5μm和8-12μm波段平均透过率超过94%，峰值透过率达到97%，可作为优良的红外增透膜和保护膜，已成功应用于红外窗口表面。

实验室制备的红外窗口样品